Uppstartsföretaget Replisaurus, som utvecklar en billig
tillverkningsteknik för att skapa kopparmönster på kisel, har
förbättrat sin process så att den klarar ledarmönster ner till 500 nm
separerade med ett avstånd på 300 nm.
– Demonstrationen av ett ledarmönster i koppar med en bredd på 500 nm
är en viktig milstolpe i företagets historia, säger Replisaurus vd
Patrik Möller i ett pressmeddelande.Resultaten presenteras på konferensen Micro- an Nano-Engineering, MNE2005, i Wien den 21 september.
Replisaurus ECPR-process (ElectroChemical Pattern Replication) för att skapa ett kopparmönster på till exempel kisel baserad på replikering. Replikering fungerar ungefär på samma sätt som när man använder en stämpel. Kopparmönstret skapas dock inte med tryck utan genom att en spänning appliceras mellan ”stämpeln” och kiselskivan.
- En fabb som kör 30 000 åttatumsskivor per månad kan spara 20 miljoner dollar per år med vår teknik som bara behöver tre processteg jämfört med dagens metod som kräver åtta, sade Patrik Möller till Elektroniktidningen i februari.
Replisaurus ska inte tillverka produktionsutrustningen själva utan samarbetar med utrustningstillverkare som ska bygga in tekniken i sina maskiner.